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Wuxi Special Ceramic Electrical Co.,Ltd
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Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

Detalles del producto

Lugar de origen: Jiangsu, China

Nombre de la marca: Wuxi Special Ceramic

Certificación: ISO 9001:2015

Número de modelo: WS-AL-PS14

Condiciones de pago y envío

Cantidad de orden mínima: 10 piezas

Precio: US$10~US$180/Piece

Detalles de empaquetado: Cajas de cartón de exportación con inserciones de espuma, paletizadas para transporte marítimo o aér

Tiempo de entrega: 15-30 días después de la confirmación

Condiciones de pago: T/T, carta de crédito, Western Union

Capacidad de la fuente: 100.000 piezas por mes

Obtenga el mejor precio
Resaltar:

Polished Alumina Wafer Chuck

,

Mirror Finish Ceramic Part

,

Semiconductor Processing Equipment

Contenido de alúmina:
99,5% Al2O3
Acabado superficial:
Espejo pulido
Rugosidad de la superficie:
Ra 0,02 µm
Grado de pureza:
Grado de vacío
Densidad:
3,92 g/cm3
Color:
De marfil
Solicitud:
equipos de procesamiento de semiconductores
temperatura máxima del uso:
1700 grados C
Contenido de alúmina:
99,5% Al2O3
Acabado superficial:
Espejo pulido
Rugosidad de la superficie:
Ra 0,02 µm
Grado de pureza:
Grado de vacío
Densidad:
3,92 g/cm3
Color:
De marfil
Solicitud:
equipos de procesamiento de semiconductores
temperatura máxima del uso:
1700 grados C
Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment
In semiconductor processing, the surface that touches the wafer must be perfect: smooth enough to avoid particle trapping, clean enough to avoid contamination, and stable enough to hold wafers flat at process temperature. Our Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chucks are pressed and sintered from vacuum grade 99.5% alumina, then ground and polished to a mirror finish with roughness down to 0.02 microns Ra. The dense, non-porous surface releases wafers cleanly, resists the
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